金属图形集成电路（Metal-oxide-semiconductor Integrated Circuit，简称MOS IC）是一种基于金属-氧化物-半导体结构的集成电路。它采用了金属-氧化物-半导体场效应晶体管（MOSFET）作为主要的放大器和开关元件，具有功耗低、速度快、可靠性高等优点，被广泛应用于数字电路、模拟电路、微处理器等领域。
金属-氧化物-半导体结构
金属-氧化物-半导体结构是MOS IC的基础。它由金属、氧化物和半导体三部分组成。金属层作为电极，连接电路中的各个部分；氧化物层作为绝缘层，隔离金属层和半导体层；半导体层则是MOSFET的主体，负责放大和控制电流。这种结构可以实现电路的高度集成和微小化，是现代集成电路技术的基石。
MOSFET
MOSFET是MOS IC中最重要的器件之一。它是一种三端口场效应晶体管，由源极、漏极和栅极三部分组成。栅极与氧化物层之间形成一个电容，可以通过控制栅极电压来改变电荷密度，从而控制漏极和源极之间的电流。MOSFET具有输入阻抗大、输出阻抗小、开关速度快等优点，被广泛用于数字电路和模拟电路中。
应用领域
MOS IC在数字电路、模拟电路、微处理器等领域都有广泛应用。在数字电路中，MOS IC可以实现各种逻辑门电路，如与门、或门、非门等，以及计数器、触发器等数字电路。在模拟电路中，MOS IC可以实现放大器、滤波器、振荡器等模拟电路。微处理器则是MOS IC在计算机领域的代表，它可以完成各种计算和控制任务，是现代计算机技术的核心。
总之，金属图形集成电路是现代电子技术中不可或缺的一部分，它的出现和发展推动了电子技术的进步和应用。随着科技的不断发展，MOS IC将会有更加广泛和深入的应用。